成都某半导体器件基带芯片研制厂，晶圆生产的时候中带来含硅、氟的特殊性化工废水净化处理，设置进行净化处理总量1200吨/日。化工废水净化处理材料缜密，含纳米级级硅颗料及氢氧化钠，传统型进行净化处理的办法难易达到标准。 生产废水组成及来源于 一般环境破坏物 ：电解质溶液硅（100-500nm粒度）、氟阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 来源于程序 ：晶圆刻蚀生活污水（45%）、CMP普通自动化设施设备自动化设施设备增加光泽生活污水（40%）、设施设备冲干净水（15%） 整理工艺设备步骤 创新发展进行"化学式积累+珍禽膜区分"能力路线地图： 钙盐析出 ：加药系统氯化钙除去氟阴阳离子（合成CaF2奠定） 斜管沉淀池发应 ：复合型斜管沉淀池剂达到悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜截流微细顆粒 超滤法系统性 ：脱盐率>98%，再利用率75% 多效蒸发沉淀 ：浓水段保证氟化物零排污 进而实际效果 氟化物溶液浓度：<8mg/L（压低地方一个标准化10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水材料中水回用率：70%适用于混凝土冷却塔塔保湿 危险废弃物减量化：化掉残留物量较传统的流程减轻60%