某光电器件手工制造企业主因晶圆洗涤制作工艺制造含氨废水除理，排水量200吨/天。废水除理中除化学需氧量外还含有氟化物和少量高价属，除理难易度大。地区产生需要需要化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水材质及渠道 晶圆除垢废水处理（主要是原因）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作生活污水：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值跌涨大 CMP粉磨电镀废水：含硅粒状及氧化还原电位 加工艺的流程 用于"检查是否沉定+膜拆分+折点氯化"组装艺： 预治理 ：添加CaCl2除氟，抑制pH在7.5-8. 反渗透膜控制系统 ：清掉0.01μm之上颗粒状物 反构建浸提 ：将挥发酚浓缩提炼至1000mg/L超过 折点氯化 ：小于调整氯加药量，将挥发酚转换为离氮气 铁离子交流 ：后勤保障天价属及格 以后成效 高锰酸盐指数平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含氧量最低检验限 水回收率达75% 飞灰会产生量以减少40%