该晶圆产生厂坐落华中地，主要的产生加工8寸大光电器件晶圆，单日废渣直接排股票放量约800吨。随着产生加工的过程 中使用的许多盐酸使用晶圆蚀刻，影响废渣中氟化物浓硫酸浓度超过200-300mg/L，远超中国直接排放量标准化（10mg/L下例）。 废渣化学成分及原因 废液主耍存在4个过程： 晶圆蚀刻工作 ：含高渗透压氟化物（HF）、氰化钠及极少量血本属 检查是否自动化抛光技术处理（CMP）焦化废水 ：含奈米级硅粒状、可挥发络合剂 设配洗掉污废水 ：含异丙醇、高锰酸盐指数等巧妙物 加工处理新工艺步奏 使用"物理悠长岁月中+混凝土悠长岁月中+纵深油烟净化器"三阶段治疗程序： 3级操作 ：污泥脱水氯化钙和氢腐蚀钙，导致氟化钙积淀，氟化物彻底清除率达85% 二级考试处理 ：移除PAC（缔合氯化铝）和PAM（聚丙乙烯酰胺），删去固体态废弃物物 三级分销处里 ：依据多材质净化器和活性酶炭气体吸附，出液氟化物氧浓度保持稳定在8mg/L下述 核心控制系统涉及：pH重新调节器控制系统、斜管滤渣池、板框厢式压滤机（废水脱水过滤）。 进而实际效果 項目正常运行一年监测系统大数据凸显： 氟化物人均盐浓度：7.2mg/L（不超国原则） COD出掉率：92% 废水含水分率：≤65% 年回收并氟化钙副食品约150吨，实行产品化利于